용도

반도체 웨이퍼 식각, LCD Etchant 원료

제조 과정

P4(황인)을 연소, Hydration(수화) 후 정제를 거쳐 인산(75%,85%)를 제조하고 이후 추가 정제과정을 거쳐 반도체용 고순도 인산을 제조합니다.

1980년 인천공장에서 인산사업을 시작한 OCI는 2003년 군산공장에 LCD Grade 인산공장을 새로 준공하면서, 고순도 인산사업을 시작했습니다. 이후 반도체용 고순도인산 라인을 갖추면서 2008년부터 본격적으로 삼성전자를 시작으로 세계 유수의 반도체 업체에 고순도인산을 공급하고 있습니다.

사업 개시 연도

2007년

생산공장

한국
군산공장